DEK

批量成像设备供应商得可公司（DEK）将在即将到来的2011年NEPCON华南展会上带来其最新的印刷创新和技术。从屡获殊荣的印刷平台Horizon APiX、最新的HawkEye Bridging印刷后检验创新技术到突破性的ProActiv和Nano-ProTek技术应有尽有。

环球仪器Advantis 3平台获新产品导入大奖

得可的半导体及可替代应用经理Dave Foggie在SEMICON展会的现场接受了EMS007的采访。2010年DEK的总体情况很不错，作为设备制造商，其在该领域的知名度和口碑为其带来了不错的业绩。本次SEMICON他们主推了分别针对晶圆级封装和基板级封装的两台设备。点击观看视频

得可将在Amper 2011展会上展示生产力提升解决方案

DEK任命Khoo为电子装配市场总监

得可举办网络研讨会推出“抗助焊剂”钢网涂层技术

得可将于2月15日(二)举行网络研讨会，宣布推出“抗助焊剂”钢网涂层技术。研讨会用中、英文两种语言进行，介绍突破性的Nano-ProTek技术，如何提高钢网清洁效率，和减少清洁频率。

DEK扩展业务

得可获广东省电子学会SMT专委会最佳客户服务奖

得可推出新VectorGuard® 双层Platinum网板